12 октября, 2022 
raven000 В начале марта 2014 г бельгийский экспериментальный факультет IMEC приоткрыл техническую площадку для изучения производственных общепризнанных мерок менее 7 hm. Это один из немногих азиатских академических центров, с успехом работающих в данной области, и теперь демонстрировавший рабочий пример 5-нм чипсета.
Сейчас и организация ARM сообщила о стратегически важном партнёрстве с IMEC в масштабах платформы INSITE по отладке современных действий распечатки чипов с повышенной насыщенностью расположения транзисторов. Платформа увидела свет в 2009 году и сейчас начитывает не менее 10 участников, причастных в учащенном изучении трудных полупроводниковых техпроцессов и понижении рисков. Она дает возможность на начальном раунде выяснить специфики технологии, взять решения о нужных переменах в дизайне и оформить план образования конечной продукции.
ARM сконцентрируется на трудностях разработки моделей и архитектуры системного значения для оптимизации производительности, мощности, площади и стоимости чипов. IMEC также рассказала о конце партнерства с Synopsys в сфере экранирования и внедрения других металлов для объединений и элементов затворов при 7-нм и не менее узких нормах.
Средства разработки Synopsys дают возможность расценить проводимость элементов оковём симуляции действий на начальных шагах подготовки, когда данные о пластинке ещё не установлены, и на этапах оптимизации и внедрения технологии, что дает возможность уменьшить траты на печать испытательных пластинок.
Оптимизация современных общепризнанных мерок техпроцесса — это очень трудная цель. Перед создателями в настоящее время стоит трудный выбор огромного числа возможных дизайнов 7-нм микросхем.
Опубликовано в рубрике 
